Effects of oxygen flow rates on the physical characteristics of magnetron sputtered CuO films

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Autor*in:

Li, Jingjie [verfasserIn]

Zhao, Yang [verfasserIn]

Wang, Hui [verfasserIn]

Zhou, Yijian [verfasserIn]

Zhang, Meng [verfasserIn]

Fu, Hongyuan [verfasserIn]

Zhang, Baoping [verfasserIn]

Li, Xinzhong [verfasserIn]

Yang, Fan [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2019

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Vacuum - Amsterdam [u.a.] : Elsevier Science, 1951, 168

Übergeordnetes Werk:

volume:168

DOI / URN:

10.1016/j.vacuum.2019.108811

Katalog-ID:

ELV002897253

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