Calcium incorporated copper indium oxide thin films - a promising candidate for transparent electronic applications

This paper reports the possibility to fabricate transparent diodes with the configuration: Fluorine doped Tin Oxide/n-type copper indium oxide/p-type calcium doped copper indium oxide/Silver with better rectification ratio than that of the diodes with Sn-doped Copper Indium Oxide as the n-counterpar...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Nair, Bindu.G. [verfasserIn]

Rahman, Hilal [verfasserIn]

K, Aijo John. [verfasserIn]

K, Keerthi. [verfasserIn]

Shaji, S. [verfasserIn]

Okram, G.S. [verfasserIn]

Sharma, Vikash [verfasserIn]

Philip, Rachel Reena [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2019

Schlagwörter:

Thin film

Crystallization

Transparent conducting oxide

Electrical conductivity

Transmittance

Transparent diode

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Thin solid films - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1967, 693

Übergeordnetes Werk:

volume:693

DOI / URN:

10.1016/j.tsf.2019.137673

Katalog-ID:

ELV003286495

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