Al doping for bipolarity induction in transparent conducting CuInO

Al doping is used in transparent conducting CuInO2 (CIO:Al) thin films for producing bipolar electrical conductivity. The doped thin films of electrical conductivity ~2 to 4 S/cm and mobility 100 to 101 V/cm2 are deposited by oxygen plasma assisted reactive evaporation technique. The change in condu...
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Autor*in:

Nair, Bindu G. [verfasserIn]

Rahman, Hilal [verfasserIn]

Sharma, Vikash [verfasserIn]

Okram, G.S. [verfasserIn]

Deshpande, Uday [verfasserIn]

Ganesan, V. [verfasserIn]

Reena Philip, Rachel [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2020

Schlagwörter:

Thin films

Crystallization

Electrical conductivity

P-n junction diode

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Materials science and engineering / B - New York, NY [u.a.] : Elsevier, 1988, 255

Übergeordnetes Werk:

volume:255

DOI / URN:

10.1016/j.mseb.2020.114520

Katalog-ID:

ELV003886484

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