TCT-785 Low implantation depth during TAVR increases the pressure exerted on the atrioventricular conduction system: a biomechanical analysis

Gespeichert in:
Autor*in:

Rocatello, Giorgia [verfasserIn]

El Faquir, Nahid

Segers, Patrick

Mortier, Peter

de Jaegere, Peter

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2017

Umfang:

2

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Bimetallic diffusion modeling and temperature regulation during ball milling - Aureli, Matteo ELSEVIER, 2018, JACC, New York, NY

Übergeordnetes Werk:

volume:70 ; year:2017 ; number:18 ; day:31 ; month:10 ; pages:267-268 ; extent:2

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1016/j.jacc.2017.09.669

Katalog-ID:

ELV040757676

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