A New dynamic model for study of dislocation pattern formation

Abstract Based on the principle given in nonlinear diffusion-reaction dynamics, a new dynamic model for dislocation patterning is proposed by introducing a relaxation time to the relation between dislocation density and dislocation flux. The so-called chemical potential like quantities, which appear...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Zhuping, Duan

Wenbiao, Wang

Qingrong, Zheng

Guojun, Huang

Diwen, Chen

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

1996

Umfang:

13

Reproduktion:

Springer Online Journal Archives 1860-2002

Übergeordnetes Werk:

in: Acta mechanica Sinica - 1985, 12(1996) vom: März, Seite 200-212

Übergeordnetes Werk:

volume:12 ; year:1996 ; month:03 ; pages:200-212 ; extent:13

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Katalog-ID:

NLEJ206672772

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