The APD Annihilation Mechanism of 3C-SiC Hetero-Epilayer on Si(001) Substrate

Gespeichert in:
Autor*in:

Ishida, Yuuki [verfasserIn]

Takahashi, Tetsuo

Okumura, Hajime

Sekigawa, Toshihiro

Yoshida, Sadafumi

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

s.l. Stafa-Zurich, Switzerland: 2000

Anmerkung:

https://getinfo.de/app/details?id=transtech:doi~10.4028%252Fwww.scientific.net%252FMSF.338-342.253

Umfang:

Online-Ressource (4 pages)

Reproduktion:

Scientific.Net: Materials Science & Technology / Trans Tech Publications Archiv 1984-2008

Übergeordnetes Werk:

In: Materials science forum - Uetikon : Trans Tech Publ., 1984, Vol. 338-342 (May 2000), p. 253-256

Übergeordnetes Werk:

volume:338-342 ; year:2000 ; pages:253-256

Links:

Volltext
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DOI / URN:

10.4028/www.scientific.net/MSF.338-342.253

Katalog-ID:

NLEJ23789694X

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