Analysis by Surface-Sensitive Second Harmonic Generation of Si(111)7 x 7 Exposed to High Purity Ozone Jet for Oxide Film Formation

Gespeichert in:
Autor*in:

Nakamura, K. [verfasserIn]

Kurokawa, A.

Ichimura, S.

Format:

Artikel

Erschienen:

1997

Systematik:

Umfang:

6

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Surface and interface analysis - Chichester [u.a.] : Wiley, 1979, 25(1997), 2, Seite 88-93

Übergeordnetes Werk:

volume:25 ; year:1997 ; number:2 ; pages:88-93 ; extent:6

Katalog-ID:

OLC151401128X

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