Semiconductors - Diffusion and Electrical Properties of Iron-Related Defects in N-Type Silicon Grown by Czochralski- and Floating Zone Method

Gespeichert in:
Autor*in:

Tanaka, Shuji [verfasserIn]

Kitagawa, Hajime

Format:

Artikel

Erschienen:

1998

Systematik:

Umfang:

7

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Japanese journal of applied physics. Part 1, Regular papers, brief communications & review papers - Tokyo : Ōyō Butsuri Gakkai, 1982, 37(1998), 9, A, Seite 4656-4662

Übergeordnetes Werk:

volume:37 ; year:1998 ; number:9 ; supplement:A ; pages:4656-4662 ; extent:7

Katalog-ID:

OLC1543722679

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