Effect of cracks in TiN anti-reflection coating layers on early via electromigration failure

Gespeichert in:
Autor*in:

Huang, J.S. [verfasserIn]

Oates, A.S.

Zhao, J.

Format:

Artikel

Erschienen:

2000

Umfang:

6

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Thin solid films - Amsterdam [u.a.] Elsevier, 1967, 365(2000), 1, Seite 110-115

Übergeordnetes Werk:

volume:365 ; year:2000 ; number:1 ; pages:110-115 ; extent:6

Katalog-ID:

OLC1571011110

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