Effect of traps in the transition Si-SiO2 layer on input characteristics of SOI transistors

Gespeichert in:
Autor*in:

Lysenko, V.S. [verfasserIn]

Tyagulski, I.P.

Gomeniuk, Y.V.

Osiyuk, I.N.

Format:

Artikel

Erschienen:

2000

Umfang:

4

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Microelectronics reliability - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1964, 40(2000), 4, Seite 799-802

Übergeordnetes Werk:

volume:40 ; year:2000 ; number:4 ; pages:799-802 ; extent:4

Katalog-ID:

OLC1572343540

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