Instrumentation, Measurement, and Fabrication Technology - Determination of the Density and the Thickness of SiO2 Films Using Extremely Asymmetric X-Ray Diffraction

Gespeichert in:
Autor*in:

Kudo, Yoshihiro [verfasserIn]

Liu, Kuang-Yu

Kawado, Seiji

Kashiwagi, Akihide

Hirano, Keiichi

Format:

Artikel

Erschienen:

2000

Systematik:

Umfang:

5

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Japanese journal of applied physics. Part 1, Regular papers, brief communications & review papers - Tokyo : Ōyō Butsuri Gakkai, 1982, 39(2000), 3, A, Seite 1409-1413

Übergeordnetes Werk:

volume:39 ; year:2000 ; number:3 ; supplement:A ; pages:1409-1413 ; extent:5

Katalog-ID:

OLC1572675667

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