ELECTRONIC TRANSPORT AND SEMICONDUCTORS - Effect of oxidation method and post-oxidation annealing on interface properties of metal-oxide-semiconductor structures formed on n-type 4H-SiC C(0001) face

Gespeichert in:
Autor*in:

Fukuda, K. [verfasserIn]

Cho, W.J.

Arai, K.

Suzuki, S.

Senzaki, J.

Tanaka, T.

Format:

Artikel

Erschienen:

2000

Umfang:

3

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics letters - Melville, NY : AIP, 1962, 77(2000), 6, Seite 866-868

Übergeordnetes Werk:

volume:77 ; year:2000 ; number:6 ; pages:866-868 ; extent:3

Katalog-ID:

OLC1576657213

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