Ionized-cluster-beam deposition and electrical bistability of C60-tetracyanoquinodimethane thin films

Gespeichert in:
Autor*in:

Gao, H.J. [verfasserIn]

Xue, Z.Q.

Wang, K.Z.

Wu, Q.D.

Pang, S.

Format:

Artikel

Erschienen:

1996

Umfang:

3

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics letters - Melville, NY : AIP, 1962, 68(1996), 16, Seite 2192-2194

Übergeordnetes Werk:

volume:68 ; year:1996 ; number:16 ; pages:2192-2194 ; extent:3

Katalog-ID:

OLC1594498938

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