Effect of Nitrogen Profile on Tunnel Oxynitride Degradation with Charge Injection Polarity

Gespeichert in:
Autor*in:

Arakawa, Tomiyuki [verfasserIn]

Matsumoto, Ryoichi

Kita, Akio

Format:

Artikel

Erschienen:

1996

Systematik:

Umfang:

5

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Japanese journal of applied physics. Part 1, Regular papers, brief communications & review papers - Tokyo : Ōyō Butsuri Gakkai, 1982, 35(1996), 2, B, Seite 1491-1495

Übergeordnetes Werk:

volume:35 ; year:1996 ; number:2 ; supplement:B ; pages:1491-1495 ; extent:5

Katalog-ID:

OLC1596446722

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