Reduction of stress at the initial stages of GaN growth on Si(111)

Gespeichert in:
Autor*in:

Dadgar, A. [verfasserIn]

Poschenrieder, M.

Reiher, A.

Bläsing, J.

Christen, J.

Krtschil, A.

Finger, T.

Hempel, T.

Diez, A.

Format:

Artikel

Erschienen:

2003

Umfang:

3

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics letters - Melville, NY : AIP, 1962, 82(2003), 1, Seite 28-30

Übergeordnetes Werk:

volume:82 ; year:2003 ; number:1 ; pages:28-30 ; extent:3

Katalog-ID:

OLC1638678642

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