Fabrication of 50 nm high performance strained-SiGe pMOSFETs with selective epitaxial growth

Gespeichert in:
Autor*in:

Loo, Roger [verfasserIn]

Collaert, Nadine

Verheyen, Peter

Caymax, Matty

Delhougne, Romain

Meyer, Kristin De

Format:

Artikel

Erschienen:

2004

Umfang:

5

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied surface science - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1985, 224(2004), 1, Seite 292-296

Übergeordnetes Werk:

volume:224 ; year:2004 ; number:1 ; pages:292-296 ; extent:5

Katalog-ID:

OLC165841733X

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