Highly sensitive NO2 gas sensor fabricated with RF induction plasma deposition method

Gespeichert in:
Autor*in:

Shi, Liqin [verfasserIn]

Hasegawa, Y.

Katsube, T.

Onoue, K.

Nakamura, K.

Format:

Artikel

Erschienen:

2004

Umfang:

6

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Sensors and actuators / B - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1990, 99(2004), 2, Seite 361-366

Übergeordnetes Werk:

volume:99 ; year:2004 ; number:2 ; pages:361-366 ; extent:6

Katalog-ID:

OLC1662700180

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