Relevance of phosphorus incorporation and hydrogen removal for Si:P d-doped layers fabricated using phosphine

Gespeichert in:
Autor*in:

Goh, K.E.J. [verfasserIn]

Oberbeck, L.

Simmons, M.Y.

Format:

Artikel

Erschienen:

2005

Umfang:

7

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Physica status solidi. A, Applications and materials science - Berlin : Wiley-VCH, 1970, 202(2005), 6, Seite 1002-1008

Übergeordnetes Werk:

volume:202 ; year:2005 ; number:6 ; pages:1002-1008 ; extent:7

Katalog-ID:

OLC1672590299

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