Role of Fluorine in Reactive Ion Etching of Silicon Dioxide

Gespeichert in:
Autor*in:

Ikegami, Naokatsu [verfasserIn]

Miyakawa, Yasuhiro

Hashimoto, Jun

Ozawa, Nobuo

Kanamori, Jun

Format:

Artikel

Erschienen:

1993

Systematik:

Umfang:

7

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Japanese journal of applied physics. Part 1, Regular papers, brief communications & review papers - Tokyo : Ōyō Butsuri Gakkai, 1982, 32(1993), 12, B, Seite 6088-6094

Übergeordnetes Werk:

volume:32 ; year:1993 ; number:12 ; supplement:B ; pages:6088-6094 ; extent:7

Katalog-ID:

OLC170824588X

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