On the dispersion of electromigration failure times of Al alloy contacts to silicon

Gespeichert in:
Autor*in:

Oates, A.S. [verfasserIn]

Format:

Artikel

Erschienen:

1994

Umfang:

3

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics letters - Melville, NY : AIP, 1962, 64(1994), 21, Seite 2870-2872

Übergeordnetes Werk:

volume:64 ; year:1994 ; number:21 ; pages:2870-2872 ; extent:3

Katalog-ID:

OLC1710106174

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