Nondestructive dose determination and depth profiling of arsenic ultrashallow junctions with total reflection X-ray fluorescence analysis compared to dynamic secondary ion mass spectrometry

Gespeichert in:
Autor*in:

Pepponi, G. [verfasserIn]

Streli, C.

Wobrauschek, P.

Zoeger, N.

Luening, K.

Pianetta, P.

Giubertoni, D.

Barozzi, M.

Bersani, M.

Format:

Artikel

Erschienen:

2004

Umfang:

8

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Spectrochimica acta / B - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1967, 59(2004), 8, Seite 1243-1250

Übergeordnetes Werk:

volume:59 ; year:2004 ; number:8 ; pages:1243-1250 ; extent:8

Katalog-ID:

OLC1730274250

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