An EXAFS investigation of arsenic shallow implant activation in silicon after laser sub-melt annealing

Gespeichert in:
Autor*in:

Giubertoni, D. [verfasserIn]

Pepponi, G.

Bersani, M.

Gennaro, S.

D’Acapito, F.

Doherty, R.

Foad, M.A.

Format:

Artikel

Erschienen:

2006

Systematik:

Umfang:

4

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Nuclear instruments & methods in physics research. Section B, Beam interactions with materials and atoms - Amsterdam [u.a.] : Elsevier, 1984, 253(2006), 1, Seite 9-12

Übergeordnetes Werk:

volume:253 ; year:2006 ; number:1 ; pages:9-12 ; extent:4

Katalog-ID:

OLC1754902316

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