Structural and electrical properties of low pressure metalorganic chemical vapor deposition grown Eu2O3 films on Si(100)

Gespeichert in:
Autor*in:

Singh, M.P. [verfasserIn]

Shalini, K.

Shivashankar, S.A.

Deepak, G.C.

Bhat, N.

Format:

Artikel

Erschienen:

2006

Umfang:

1

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics letters - Melville, NY : AIP, 1962, 89(2006), 20, Seite 201901

Übergeordnetes Werk:

volume:89 ; year:2006 ; number:20 ; pages:201901 ; extent:1

Katalog-ID:

OLC1756846812

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