A new method for film deposition in the discharge of target metal vapour

Gespeichert in:
Autor*in:

Bárdos, L. [verfasserIn]

Baránková, H.

Berg, S.

Format:

Artikel

Erschienen:

1995

Umfang:

7

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Surface & coatings technology - Lausanne : Elsevier Sequoia, 1986, 72(1995), 3, Seite 174-180

Übergeordnetes Werk:

volume:72 ; year:1995 ; number:3 ; pages:174-180 ; extent:7

Katalog-ID:

OLC1760348821

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