Pattern transfer fidelity in capillary force lithography with poly(ferrocenylsilane) plasma etch resists

Gespeichert in:
Autor*in:

Korczagin, Igor [verfasserIn]

Xu, Hong

Hempenius, Mark A.

Julius Vancso, G.

Format:

Artikel

Erschienen:

2008

Umfang:

6

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: European polymer journal - Oxford : Elsevier, 1965, 44(2008), 8, Seite 2523-2528

Übergeordnetes Werk:

volume:44 ; year:2008 ; number:8 ; pages:2523-2528 ; extent:6

Katalog-ID:

OLC1798984563

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