Grain-scale adhesion strength mapping of copper wiring structures in integrated circuits

Gespeichert in:
Autor*in:

Kamiya, Shoji [verfasserIn]

Shishido, Nobuyuki

Watanabe, Shinsuke

Sato, Hisashi

Koiwa, Kozo

Omiya, Masaki

Nishida, Masahiro

Suzuki, Takashi

Nakamura, Tomoji

Nokuo, Takeshi

Nagasawa, Tadahiro

Format:

Artikel

Erschienen:

2013

Umfang:

5

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Surface & coatings technology - Lausanne : Elsevier Sequoia, 1986, 215(2013) vom: 25. Jan., Seite 280-284

Übergeordnetes Werk:

volume:215 ; year:2013 ; day:25 ; month:01 ; pages:280-284 ; extent:5

Katalog-ID:

OLC191154652X

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