Structural and morphological evolution of aluminum nitride thin films: Influence of additional energy to the sputtering process

Gespeichert in:
Autor*in:

Signore, M.A. [verfasserIn]

Bellini, E.

Taurino, A.

Catalano, M.

Martucci, M.C.

Cretì, P.

Vasanelli, L.

Siciliano, P.

Quaranta, F.

Format:

Artikel

Erschienen:

2013

Umfang:

8

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: The journal of physics and chemistry of solids - New York, NY [u.a.] : Pergamon Press, 1962, 74(2013), 10 vom: Okt., Seite 1444-1451

Übergeordnetes Werk:

volume:74 ; year:2013 ; number:10 ; month:10 ; pages:1444-1451 ; extent:8

Katalog-ID:

OLC1923279815

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