Structures, electrical and optical properties of nickel oxide films by radio frequency magnetron sputtering

Gespeichert in:
Autor*in:

Zhao, Y. [verfasserIn]

Wang, H.

Wu, C.

Shi, Z.F.

Gao, F.B.

Li, W.C.

Wu, G.G.

Zhang, B.L.

Du, G.T.

Format:

Artikel

Erschienen:

2014

Umfang:

3

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Vacuum - Kidlington : Elsevier Science, 1951, 103(2014) vom: Mai, Seite 14-16

Übergeordnetes Werk:

volume:103 ; year:2014 ; month:05 ; pages:14-16 ; extent:3

Katalog-ID:

OLC1935655345

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