Collective buckling of nonuniform nanobeams interacting through an elastic substrate

Abstract We analyze the collective buckling of a row of vertical beams with their lower ends built into an elastic substrate. The beams interact among themselves through the deformation of the substrate. The present analysis is more sophisticated than a previous one in that the beams’ height and spa...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Li, Z. [verfasserIn]

Feng, K.

Yang, J. S.

Tan, L.

Lin, H.

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2009

Schlagwörter:

Soft Lithography

Nanoimprint Lithography

Elastic Substrate

Free Body Diagram

Vertical Beam

Anmerkung:

© Springer-Verlag 2009

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Acta mechanica - Springer Vienna, 1965, 209(2009), 3-4 vom: 24. Mai, Seite 285-293

Übergeordnetes Werk:

volume:209 ; year:2009 ; number:3-4 ; day:24 ; month:05 ; pages:285-293

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s00707-009-0182-3

Katalog-ID:

OLC2030132551

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