Silicon nano-asperities: Morphological evolution and electrical properties of double-polysilicon interlayers

Abstract Polysilicon/silicon-dioxide/polysilicon structures (double polysilicon) are grown by deposition of amorphous silicon followed by thermal oxidation and a final polysilicon deposition process. Correlation between the appearance of silicon nano-structures and surface morphology formed during t...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Edrei, R. [verfasserIn]

Shauly, E. N.

Roizin, Y.

Gridin, V. V.

Akhvlediani, R.

Hoffman, A.

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2004

Anmerkung:

© TMS-The Minerals, Metals and Materials Society 2004

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of electronic materials - Springer-Verlag, 1972, 33(2004), 7 vom: Juli, Seite 819-825

Übergeordnetes Werk:

volume:33 ; year:2004 ; number:7 ; month:07 ; pages:819-825

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s11664-004-0248-x

Katalog-ID:

OLC204229540X

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