Additive oxygen effects in Cl2 plasma etching of chrome films

Gespeichert in:
Autor*in:

Kwon, Kwang-Ho [verfasserIn]

Kang, Seung-Youl

Park, Sang-Ho

Sung, Hee-Kyung

Kim, Dong-Keun

Moon, Jong-Ha

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

1999

Schlagwörter:

Oxygen

Polymer

Chrome

Plasma Etching

Additive Oxygen

Anmerkung:

© Kluwer Academic Publishers 1999

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of materials science / Letters - Kluwer Academic Publishers, 1982, 18(1999), 15 vom: Aug., Seite 1197-1200

Übergeordnetes Werk:

volume:18 ; year:1999 ; number:15 ; month:08 ; pages:1197-1200

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1023/A:1006642016630

Katalog-ID:

OLC2073015778

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