Enhanced cohesion of photo-oxygenated fullerene films: A new opportunity for lithography

Abstract The irradiation of sublimed fullerene ($ C_{60} $ and $ C_{70} $) thin films with ultraviolet light in an oxygen-rich ambient has been found to lead to a substantially increased cohesive energy in the fullerene solid. The decreased solubility and lower vapor pressure of the phototransformed...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Hebard, A. F. [verfasserIn]

Eom, C. B.

Fleming, R. M.

Chabal, Y. J.

Muller, A. J.

Glarum, S. H.

Pietsch, G. J.

Haddon, R. C.

Mujsce, A. M.

Paczkowski, M. A.

Kochanski, G. P.

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

1993

Systematik:

Anmerkung:

© Springer-Verlag 1993

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics. A, Materials science & processing - Springer-Verlag, 1981, 57(1993), 3 vom: Sept., Seite 299-303

Übergeordnetes Werk:

volume:57 ; year:1993 ; number:3 ; month:09 ; pages:299-303

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/BF00332606

Katalog-ID:

OLC2074127391

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