Emission characteristics of debris from $ CO_{2} $ and Nd:YAG laser-produced tin plasmas for extreme ultraviolet lithography light source

Abstract We describe a comparative study of the emission characteristics of debris from $ CO_{2} $ and Nd:YAG laser-produced tin plasmas for developing an extreme-ultraviolet (EUV) lithography light source. Tin (Sn) ions and droplets emitted from a Sn plasma produced by a $ CO_{2} $ laser or an Nd:Y...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Takahashi, A. [verfasserIn]

Nakamura, D.

Tamaru, K.

Akiyama, T.

Okada, T.

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2008

Schlagwörter:

Quartz Crystal Microbalance

Full Width Half Maximum

Debris Accumulation

Quartz Crystal Microbalance Surface

Lower Particle Emission

Systematik:

Anmerkung:

© Springer-Verlag 2008

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics. B, Lasers and optics - Springer-Verlag, 1981, 92(2008), 1 vom: 13. Juni, Seite 73-77

Übergeordnetes Werk:

volume:92 ; year:2008 ; number:1 ; day:13 ; month:06 ; pages:73-77

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s00340-008-3068-5

Katalog-ID:

OLC2074291876

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