Origin of Double-Rhombic Single Shockley Stacking Faults in 4H-SiC Epitaxial Layers

Abstract We have investigated double-rhombic single Shockley stacking faults (DRSFs) in 4H-SiC epitaxial layers by analyzing structural details. A combination of plan-view transmission electron microscopy (TEM) and cross-sectional high-angle annular dark field scanning TEM made it possible to determ...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Nishio, Johji [verfasserIn]

Ota, Chiharu

Iijima, Ryosuke

Format:

Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2022

Schlagwörter:

4H-SiC

forward degradation

single Shockley stacking fault

partial dislocation

transmission electron microscopy

Anmerkung:

© The Minerals, Metals & Materials Society 2022

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of electronic materials - Springer US, 1972, 52(2022), 1 vom: 31. Okt., Seite 679-690

Übergeordnetes Werk:

volume:52 ; year:2022 ; number:1 ; day:31 ; month:10 ; pages:679-690

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s11664-022-10038-6

Katalog-ID:

OLC2080121103

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