EUV damage threshold measurements of Mo/Si multilayer mirrors

Abstract We present 1-on-1 and 10-on-1 damage threshold investigations on Mo/Si multilayers with EUV radiation of 13.5 nm wavelength, using a table-top laser produced plasma source based on solid gold as target material. The experiments were performed on different types of Mo/Si mirror, showing no s...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Müller, Matthias [verfasserIn]

Barkusky, Frank

Feigl, Torsten

Mann, Klaus

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2012

Schlagwörter:

Damage Threshold

Damage Probability

Relative Reflectivity

Damage Test

Multilayer Mirror

Anmerkung:

© The Author(s) 2012

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Applied physics - Berlin : Springer, 1973, 108(2012), 2 vom: 10. Juli, Seite 263-267

Übergeordnetes Werk:

volume:108 ; year:2012 ; number:2 ; day:10 ; month:07 ; pages:263-267

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s00339-012-7037-9

Katalog-ID:

SPR00412698X

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