Preparation of $ FeN_{x} $-TiN films by CVD

Abstract $ FeN_{x} $-TiN films were prepared on fused silica substrates by chemical vapour deposition from the gas mixture of Fe($ C_{5} %$ H_{5} $)2, $ TiCl_{4} $, $ NH_{3} $ and $ H_{2} $ as starting materials under atmospheric pressure. $ FeN_{x} $-TiN films were deposited above 500°C and the con...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Funakubo, Hiroshi [verfasserIn]

Mizutani, Nobuyasu [verfasserIn]

Tatsuno, Tetsuo [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

1993

Schlagwörter:

Polymer

Chemical Vapour Deposition

Vapour Deposition

Deposition Rate

Chemical Vapour

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of materials science - Dordrecht [u.a.] : Springer Science + Business Media B.V, 1966, 28(1993), 4 vom: 01. Jan., Seite 994-998

Übergeordnetes Werk:

volume:28 ; year:1993 ; number:4 ; day:01 ; month:01 ; pages:994-998

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/BF00400885

Katalog-ID:

SPR013774484

Nicht das Richtige dabei?

Schreiben Sie uns!