Ionization-induced annealing in silicon upon dual-beam irradiation

Abstract Silicon single crystals were irradiated at room temperature (RT) with single and dual low-velocity (i.e., 900 keV I) and high-velocity (i.e., 27 MeV Fe or 36 MeV W) ion beams in order to study synergistic effects between nuclear and electronic energy losses in semiconductors. The damage cre...
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Autor*in:

Thomé, Lionel [verfasserIn]

Gutierrez, Gaëlle [verfasserIn]

Monnet, Isabelle [verfasserIn]

Garrido, Frédérico [verfasserIn]

Debelle, Aurélien [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2020

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of materials science - Dordrecht [u.a.] : Springer Science + Business Media B.V, 1966, 55(2020), 14 vom: 07. Feb., Seite 5938-5947

Übergeordnetes Werk:

volume:55 ; year:2020 ; number:14 ; day:07 ; month:02 ; pages:5938-5947

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Volltext

DOI / URN:

10.1007/s10853-020-04399-8

Katalog-ID:

SPR013957198

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