Electrical properties of InAs-$ SiO_{2} $-$ In_{2} %$ O_{3} $ MIS structures with a modified interface

Abstract The effect of composition of the electrolyte used in producing a thin anodic oxide layer at the surface of a semiconductor substrate on the electrical properties of the InAs-$ SiO_{2} $-$ In_{2} %$ O_{3} $ metal-insulator-semiconductor structures is studied. It is shown that introduction of...
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Autor*in:

Valisheva, N. A. [verfasserIn]

Guzev, A. A. [verfasserIn]

Kovchavtsev, A. P. [verfasserIn]

Kuryshev, G. L. [verfasserIn]

Levtsova, T. A. [verfasserIn]

Panova, Z. V. [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2009

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Russian microelectronics - Moscow : MAIK Nauka/Interperiodica Publ., 2000, 38(2009), 2 vom: März, Seite 87-94

Übergeordnetes Werk:

volume:38 ; year:2009 ; number:2 ; month:03 ; pages:87-94

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Volltext

DOI / URN:

10.1134/S1063739709020024

Katalog-ID:

SPR017526531

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