The influence of anodic oxide on the electron concentration in n-GaAs

The influence of anodic oxide on the electron concentration near the $ Ga_{2} %$ O_{3} $–n-GaAs interface is studied. The coordinate distribution of electrons is obtained as a function of anodizing voltage, duration of treatment of oxide films in oxygen plasma, temperature, and annealing time. A dec...
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Autor*in:

Kalygina, V. M. [verfasserIn]

Vishnikina, V. V. [verfasserIn]

Zarubin, А. N. [verfasserIn]

Petrova, Yu. S. [verfasserIn]

Skakunov, М. S. [verfasserIn]

Тоlbanov, О. P. [verfasserIn]

Тyazhev, А. V. [verfasserIn]

Yaskevich, Т. М. [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2014

Schlagwörter:

anodic oxide annealing

oxygen plasma

defects

gallium vacancies

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Russian physics journal - New York, NY [u.a.] : Consultants Bureau, 1965, 56(2014), 9 vom: Jan., Seite 984-989

Übergeordnetes Werk:

volume:56 ; year:2014 ; number:9 ; month:01 ; pages:984-989

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DOI / URN:

10.1007/s11182-014-0129-6

Katalog-ID:

SPR017621178

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