A glance of technology efforts for design-for-manufacturing in nano-scale CMOS processes

Abstract This paper overviews design for manufacturing (DFM) for IC design in nano-CMOS technologies. Process/device issues relevant to the manufacturability of ICs in advanced CMOS technologies will be presented first before an exploration on process/device modeling for DFM is done. The discussion...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Cheng, YuHua [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2008

Schlagwörter:

design-for-manufacturing (DFM)

design-for-yield

nano-CMOS IC design

IC design methodology

CMOS design technology platform

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Science in China - Heidelberg : Springer, 2001, 51(2008), 6 vom: 21. Mai, Seite 807-818

Übergeordnetes Werk:

volume:51 ; year:2008 ; number:6 ; day:21 ; month:05 ; pages:807-818

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Volltext

DOI / URN:

10.1007/s11432-008-0054-9

Katalog-ID:

SPR019298307

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