Continuous-wave laser oscillation at 1.06 µm in silicon ion-implanted Nd:$ YVO_{4} $ planar waveguide

Abstract This work, for the first time to our knowledge, reports continuous-wave laser oscillation at 1.06 µm in Nd:$ YVO_{4} $ planar waveguide formed by 3.0 MeV $ Si^{+} $ ion implantation at a dose of 1 × $ 10^{15} $ ions/$ cm^{2} $ at room temperature. The effective refractive indices of the wav...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Du, G. L. [verfasserIn]

Li, G. Q.

Zhao, S. Z.

Li, T.

Li, X.

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2009

Schlagwörter:

Pump Power

Laser Phys

Optical Waveguide

Effective Refractive Index

Planar Waveguide

Anmerkung:

© Pleiades Publishing, Ltd. 2010

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Laser physics - Bristol [u.a.] : IOP Publ., 2006, 20(2009), 1 vom: 07. Dez., Seite 209-211

Übergeordnetes Werk:

volume:20 ; year:2009 ; number:1 ; day:07 ; month:12 ; pages:209-211

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1134/S1054660X10010032

Katalog-ID:

SPR020129440

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