Reactive Diffusion in Ni-Si Bulk Diffusion Couples

Abstract Reactive diffusion in the Ni-Si system has been studied using bulk polycrystalline Ni/Si wafer diffusion couples in the temperature range from 450 to 700 °C and with annealing times of up to 32 h. For all diffusion couples, three phases were detected $ Ni_{2} $Si, $ Ni_{3} %$ Si_{2} $, and...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Oukassi, S. [verfasserIn]

Hodaj, F.

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2009

Schlagwörter:

binary diffusion

diffusion couples

experimental kinetics

Anmerkung:

© ASM International 2009

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of phase equilibria and diffusion - Boston, Mass. : Springer, 2004, 30(2009), 3 vom: 08. Apr., Seite 230-234

Übergeordnetes Werk:

volume:30 ; year:2009 ; number:3 ; day:08 ; month:04 ; pages:230-234

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.1007/s11669-009-9502-5

Katalog-ID:

SPR021688036

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