Plasma-Enhanced CVD Equipment for Deposition of Nanocomposite Nanolayered Films

Abstract The paper describes the main design principles of plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) equipment based on a Mod. VUP-5(M) universal vacuum pumping station, and the application of such equipment for deposition of thin films, including nanolayered ones, from vapors of usually liq...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Porada, O. K. [verfasserIn]

Ivashchenko, V. I. [verfasserIn]

Ivashchenko, L. A. [verfasserIn]

Kozak, A. O. [verfasserIn]

Sytikov, O. O. [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2019

Schlagwörter:

thin solid films

nanocomposite and nanolayered films

PECVD equipment

VUP-5(M)

PECVD

ALD

deposition process variables

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of superhard materials - New York, NY : Allerton Press, 2007, 41(2019), 1 vom: Jan., Seite 32-37

Übergeordnetes Werk:

volume:41 ; year:2019 ; number:1 ; month:01 ; pages:32-37

Links:

Volltext

DOI / URN:

10.3103/S1063457619010040

Katalog-ID:

SPR023241144

Nicht das Richtige dabei?

Schreiben Sie uns!