The influence of the properties of a copper coating deposited on an aluminum contact surface on contact resistance

Abstract The results of experimental studies of the influence of the plasmodynamic deposition conditions of a copper coating on an aluminum contact surface on the contact resistance of an aluminum-copper high-current contact pair with a copper coating are presented. A significant decrease in contact...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Sivkov, A. A. [verfasserIn]

Saigash, A. S. [verfasserIn]

Kolganova, Yu. L. [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2013

Schlagwörter:

coaxial magnetoplasma accelerator

contact pair

copper-aluminum

contact resistance

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Russian electrical engineering - New York, NY : Allerton, 2007, 84(2013), 8 vom: 01. Aug., Seite 418-421

Übergeordnetes Werk:

volume:84 ; year:2013 ; number:8 ; day:01 ; month:08 ; pages:418-421

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Volltext

DOI / URN:

10.3103/S1068371213080129

Katalog-ID:

SPR023381469

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