An implanter with a mixed ion beam for modifying the properties of the surface of construction materials

Abstract An accelerator with the energy of single-charged ions to 70 keV and the total current to 100 mA to modify the properties of construction materials is designed. A two-step universal ion source based on low-pressure discharge with the sputtering of the targets by plasma makes it possible to o...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Potemkin, G. V. [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2011

Schlagwörter:

modifying

ion source

sputtering

vapor-gas plasma

mixed ion source

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Russian journal of non-ferrous metals - New York, NY : Allerton Press, 2007, 52(2011), 1 vom: Feb., Seite 103-108

Übergeordnetes Werk:

volume:52 ; year:2011 ; number:1 ; month:02 ; pages:103-108

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Volltext

DOI / URN:

10.3103/S1067821211010202

Katalog-ID:

SPR02342799X

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