Effect of deposition pressure on the electrical properties of nitrogen-doped amorphous carbon films

Abstract In this study, we investigate the effect of the deposition pressure on the electrical properties of nitrogen-doped amorphous carbon (a-C:N) films deposited by using an unbalanced DC magnetron sputtering method. As the deposition pressure is decreased from 9 to 1 mTorr, the resistivity decre...
Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Autor*in:

Oh, Hyungon [verfasserIn]

Cho, Kyoungah [verfasserIn]

Kim, Sangsig [verfasserIn]

Format:

E-Artikel

Sprache:

Englisch

Erschienen:

2015

Schlagwörter:

Nitrogen-doped amorphous carbon

DC magnetron sputtering

Bonding state

Übergeordnetes Werk:

Enthalten in: Journal of the Korean Physical Society - Berlin : Springer, 1968, 67(2015), 4 vom: Aug., Seite 638-642

Übergeordnetes Werk:

volume:67 ; year:2015 ; number:4 ; month:08 ; pages:638-642

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Volltext

DOI / URN:

10.3938/jkps.67.638

Katalog-ID:

SPR032721250

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